Thin Film Evaluation TFE-300

• 넓은 파장 범위(UV ~ NIR)로 측정을 실현하는 광학 시스템 입니다.
• 다층구조 분석(3층 이상)이 가능합니다.
• H/W, S/W 및 통신 기능 등 사용자 요구 사양에 맞춰 제작이 가능하며, 다양한 측정 옵션의 추가가 가능합니다.

Microscopic spectro-photometer OPTM(UV SR) series

• 자외선 영역부터 적외선 영역까지 넓은 파장 범위를 측정하는 광학 시스템입니다.
• 1초 안에 비접촉, 비파괴 고속 미세 측정이 가능합니다.
• 정확한 막 두께와 광학 상수(n, k)를 얻기 위해 샘플의 절대 반사율을 측정합니다.

Spectro ellipsometer FE-5000 series

• 가시광선 및 자외선 범위(250 ~ 800nm)에서 엘립소 파라미터를 측정합니다.
• 자동 각도 조절이 적용된 메커니즘으로 정확한 두께 측정이 가능한 엘립소미터입니다.
• 광학 상수 데이터베이스 및 레시피 등록 기능으로 조작성이 우수합니다.

Wafer process

Wafer mapping systems SF-3Rθ, SF-3AA, SF-300AAF

• 실시간으로 Si 웨이퍼 두께를 측정합니다.

• 탑재되는 스테이지 종류에 따라 3가지 타입으로 나뉩니다. (Rθ, XY, RθXY )

• 고정밀·고속 측정이 가능합니다.

Load port compatible wafer geometry metrology GS-300

• 예비 300mm EFEM 포트에 접속하여 사용 가능합니다.

• 웨이퍼 패턴 매칭이 가능합니다.

• 반도체 프로세스의 높은 생산성에 고속으로 대응 가능합니다.